氮化硅陶瓷是一种无机材料，在烧结过程中不会收缩。它是以硅粉为原料制成的。首先，通过通常的成型方法制成所需形状，然后在1200℃下在氮气中初步氮化，使一部分硅粉与氮气反应生成氮化硅，然后在1350℃至1450℃的高温炉中进行第二次氮化反应生成氮化硅。采用热压烧结法可以制备出理论密度为99%的氮化硅。Si3N4陶瓷在室温下的热导率范围为10至16 W.m-1。K-1。
分子式 | Si3N4 |
相对分子质量 | 140.28 |
颜色 | 灰色、灰黑色 |
晶系 | 六方晶系。晶体呈六面体 |
陶瓷片制备方法 | 热压法 |
相对密度 | 99.5% |
密度 | 3.2+/-0.02 g/cm3 |
莫氏硬度 | 9~9.5 |
熔点 | 1900℃（加压下）。通常在常压下1900℃分解 |
热膨胀系数 | 2.8~3.2×10-6/℃(20~1000℃) |
比热容 | 0.71J/(g·K) |
热导率 | 15~ 20W/(m·K) |
弹性模量 | 300~320 GPa |
断裂韧性 | 6.0~7.0 MPa.m |
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