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氮化铝基板(AlN)

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一、什么是氮化铝(AlN)基板?

氮化铝基板是超高导热绝缘陶瓷基板,核心定位是极致散热 + 高频低损耗,是高功率密度、射频光电器件首选基材,分DBC 直接覆铜AMB 活性钎焊DPC 薄膜金属化三大金属化路线。

120*120*0.3厚氮化铝基板
120*120*0.3厚氮化铝基板
氮化铝陶瓷基板
支持定制各种规格和厚度

二、氮化铝基板与氧化铝基板、氮化硅基板性能对比表

性能指标 氮化铝 AlN 96 氧化铝 Al₂O₃ 气压烧结 Si₃N₄ 说明
热导率 170–230 W/m·K 20–30 W/m·K 60–100 W/m·K 三者导热天花板,是氧化铝 6~8 倍
热膨胀系数 CTE 4.2–4.8 ppm/K 5.5–7.5 ppm/K 2.5–3.2 ppm/K 接近 Si(4.0)、SiC(3.8),热应力小
抗弯强度 250–380 MPa 150–350 MPa 650–1200 MPa 机械韧性远弱于氮化硅,偏脆
断裂韧性 2.7–3.4 MPa·m¹ᐟ² 3.0–3.5 6–8 MPa·m¹ᐟ² 抗热震、抗开裂能力最差
击穿强度 14–16 kV/mm 12–15 kV/mm ≥15 kV/mm 高压绝缘稳定
介电常数 @10GHz 8.5–9.0 9.8 9.5 高频信号损耗极低
介电损耗 @10GHz <0.0005 0.0015 0.001 射频、毫米波优势明显
体积电阻率 >10¹⁴ Ω·cm >10¹⁴ Ω·cm >10¹³ Ω·cm 绝缘等级一致
耐温上限 600℃(湿氧易水解) 800℃ 1200℃+ AlN 忌高温高湿长期工况
相对成本 中高 极低 价格≈氧化铝 3~4 倍,略低于 Si₃N₄

三、氮化铝基板的烧结等级及完整的制备流程

  1. 普通级 AlN(170~180W/mK)低纯度粉体,烧结助剂多,成本低;通用 LED、低压工业电源、普通 IGBT。
  2. 中高端级(190~210W/mK)主流车规 SiC、服务器电源、光伏逆变器 DBC 基板,国内量产主力规格。
  3. 超高导热级(220~235W/mK)高纯低氧粉体、热等静压 HIP 辅助烧结;5G 射频、激光器、航天军工、高端光模块。

完整生产流程

高纯 AlN 粉 + Y₂O₃/CaO 烧结助剂→球磨制浆→流延生瓷→冲切排胶→1800℃氮气气氛烧结→双面研磨抛光→激光精切→清洗检测→DBC/AMB/DPC 金属化。

四、氮化铝主流金属化工艺?

1. DBC 直接覆铜(量产最通用)

  • 原理:1060℃铜氧共晶与 AlN 表面冶金结合,无需活性钎料;
  • 优势:工艺成熟、成本低于 AMB、线路平整度好;
  • 局限:AlN 表面易氧化生成弱氧化铝层,大功率热循环易脱层;
  • 适用:中高功率 LED、服务器电源、普通 SiC 模块、工业变频器。

2. AMB 活性金属钎焊(高可靠功率器件)

  • 原理:Ti-Ag-Cu 活性焊料,850℃低温钎焊,钛元素与 AlN 化学键合;
  • 优势:结合强度高、热循环寿命提升 3 倍,耐高压大电流;
  • 局限:加工成本更高、线路精度不如 DPC;
  • 适用:800V 车载 SiC、储能 PCS、轨道交通功率模块。

3. DPC 薄膜镀铜(高频精密射频)

  • 原理:磁控溅射金属薄膜 + 电镀厚铜,线路线宽可达 20μm;
  • 优势:超薄精密线路、高频损耗最低、平整度极高;
  • 局限:散热上限略低于 DBC,大电流承载弱;
  • 适用:5G 基站功放、雷达 T/R、高速光模块、激光雷达驱动板。

五、氮化铝AIN与碳化硅陶瓷该怎么选择?

选型场景 优先选 AlN 优先选 Si₃N₄
核心需求 极致散热、高频射频、静态稳定工况 超长热循环、强振动、潮湿高温、车载主驱
功率密度 超高功率、设备空间极小 中高功率,重视长期可靠性
工作环境 干燥恒温机房、室内通信设备 车载机舱、海上风电、频繁启停变温
寿命要求 数千小时稳态运行 数万次冷热冲击循环
成本预算 追求散热,预算中等 长期高可靠,可接受更高采购价

氮化硅(Si3N4)基板   氮化铝陶瓷基板   氧化硅片  C向蓝宝石单晶衬底

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