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砷化镓衬底|砷化镓晶片|砷化镓外延片

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一、什么是砷化镓衬底砷化镓晶片有什么应用?

砷化镓(GaAs)是一种优良的半导体材料,具有禁带宽度大(direct band gap)、高迁移率(high electron mobility)、高频低噪音(high-frequency low noise)以及高转换率(high conversion efficiency)等突出的优点。

GaAs衬底分为导电片与半绝缘片两种,广泛应用于激光器(LD)、半导体发光二极管(LED)、近红外激光器、量子阱大功率激光器和高效太阳能电池板;雷达、微波、毫米波或者超高速计算机及光通信所需的HEMT和HBT芯片;无线通信、4G、5G、卫星通信、WLAN所需的射频器件。

近来,砷化镓衬底也在mini-LED、Micro-LED、红光LED方面取得较大进展,广泛应用于AR/VR可穿戴设备上。

二、衬底规格表

Diameter
晶片直径
50mm | 75mm | 100mm | 150mm
Growth Method
生长方式
LEC 液封直拉法
VGF 垂直梯度凝固法
Wafer Thickness
厚度
350 um ~ 625 um
Orientation
晶向
<100> / <111> / <110> or others
Conductive Type
导电类型
P – type / N – type / Semi-insulating
Type/Dopant
掺杂剂
Zn / Si / undoped
Carrier Concentration
载流子浓度
1E17 ~ 5E19 cm-3
Resistivity at RT
室温电阻率(ohm•cm)
≥1E7 for SI
Mobility
迁移率(cm2/V•Sec)
≥4000
EPD( Etch Pit Density )
腐蚀坑密度
100~1E5
TTV
总厚度变化
≤ 10 um
Bow / Warp
翘曲度
≤ 20 um
Surface Finish
表面
DSP/SSP
Laser Mark
激光码
Grade
等级
Epi polished grade / mechanical grade

可根据客户要求,定制不同厚度、抛光或者研磨等级不同的晶片。

三、砷化镓外延片规格表

可根据客户要求,定制不同结构、厚度的GaAs外延片,我们的外延规格和产品主要覆盖以下类型。